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遮罩工具教程:锁定、反选与提取新几何

遮罩是什么

遮罩(Mask)是画在顶点上的灰度保护层:被罩住的区域不受任何雕刻与绘画影响,类似 2D 软件里的选区。遮罩可以用笔刷画,也可以用套索、矩形等形状选择(SelMask 工具),还能从面组生成。

遮罩工具栏
进入遮罩工具后,视口顶部会出现遮罩控制条

工具栏与快捷手势

进入遮罩工具后,视口顶部出现一条控制栏,常用按钮如下:

按钮作用
Clear / Invert清空遮罩 / 反转遮罩
Sharpen / Blur锐化或模糊遮罩边缘(过渡带决定雕刻强度的渐变)
Front只罩住朝向镜头的正面顶点
Convert把遮罩转换为面组

按住左下角的快速遮罩按钮还能做手势:轻点背景 = 反转、在背景拖动 = 清空、轻点已遮罩区 = 模糊、轻点未遮罩区 = 锐化,这组 ZBrush 式手势值得练成肌肉记忆。

从遮罩长出新几何

遮罩设置菜单里藏着两个生成器,这是它区别于普通选区的核心能力:

提取预览默认开启(可切 X 光观察),点 Extract 后如果提示没有可提取内容,多半是菜单还停在预览状态——关掉菜单就能看到新壳体。

与隐藏、面组的分工

遮罩管「暂时不动」,隐藏(Hide)管「暂时不看」,面组(Facegroup)管「永久分组」;三者可以互相转换(遮罩可转面组),在减面与四边面重拓扑的面组工作流里会再遇到它们。